Tag: quang khắc
ASML và ZEISS phác thảo Hyper-NA EUV 0,75 NA, nhưng chưa cam kết ...
Thiết kế kế nhiệm High-NA có thể in chi tiết khoảng 5 nm và tái dùng nguồn sáng EUV, song vẫn là đề xuất nghiên cứu với chân trời ...
Thiết kế kế nhiệm High-NA có thể in chi tiết khoảng 5 nm và tái dùng nguồn sáng EUV, song vẫn là đề xuất nghiên cứu với chân trời ...
