Tag: atomic layer deposition
Chip tương lai có thể không cần thêm vật liệu lạ: Một oxide ngành...
Titanium dioxide vốn được xem như một dielectric quen thuộc trong công nghệ bán dẫn. Nhóm UC Berkeley và Berkeley Lab phát hiện kh...
Solid-state battery không chỉ bị giới hạn bởi electrolyte: 2,5 nm...
Nhóm Hanyang University xác định 2,5 nm là độ dày tối thiểu hiệu quả của lớp lithium niobium oxide trên NCM811 để chặn phản ứng ph...
